Přihlásit seRegistrovat se
Jazyk czen
Menu
KontaktOBCHODNÁPOVĚDAE-ReadingNovinky
Hledání
0
Celková cena
0 Kč
Cena s DPH / bez DPH
Hlavní stránka>BS ISO 23170:2022 Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Sponsored link
sklademVydáno: 2022-08-03
BS ISO 23170:2022 Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

BS ISO 23170:2022

Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

Formát
Dostupnost
Cena a měna
Anglicky Zabezpečené PDF
K okamžitému stažení
7998 Kč
Čtěte normu po dobu 1 hodiny. Více informací v kategorii E-READING
Čtení normy
na 1 hodinu
799.80 Kč
Čtěte normu po dobu 24 hodin. Více informací v kategorii E-READING
Čtení normy
na 24 hodin
2399.40 Kč
Anglicky Tisk
Skladem
7998 Kč
Označení normy:BS ISO 23170:2022
Počet stran:38
Vydáno:2022-08-03
ISBN:978 0 539 14473 4
Status:Standard
Popis

BS ISO 23170:2022


This standard BS ISO 23170:2022 Surface chemical analysis. Depth profiling. Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering is classified in these ICS categories:
  • 71.040.40 Chemical analysis

Tisk